雙腔體等離子處理機(jī) 晶圓等離子清洗設(shè)備PLAUX-JY-60LS
雙腔體等離子處理機(jī)主要用于晶圓表面等離子處理是一種通過(guò)等離子體對(duì)晶圓表面進(jìn)行改性的技術(shù)，具有高效、環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域。
產(chǎn)品特點(diǎn)
表面清潔：等離子處理可以去除晶圓表面的有機(jī)污染物、氧化物等不純物質(zhì)，確保表面清潔，提高后續(xù)工藝的精度和可靠性。
提高結(jié)合力：通過(guò)等離子轟擊晶圓表面，可以增加表面的粗糙度，同時(shí)對(duì)表面進(jìn)行改性，從而提高基材與沉積膜層的結(jié)合力。
改善潤(rùn)濕性：等離子處理可以增加表面的極性基團(tuán)，提升材料的親水性，改善潤(rùn)濕性，有助于后續(xù)工藝的進(jìn)行。
產(chǎn)品參數(shù)
| 型號(hào) | PLAUX-JY-60LS |
| 主機(jī)尺寸 | W1150×D100×H1800 mm |
| 主機(jī)重量 | 500Kg |
| 額定功率 | AC380V 約5KW |
| 設(shè)備顏色 | 白色 |
| 真空腔體尺寸 | W300×D300×深度600 mm |
| 進(jìn)氣管路配置 | 2路進(jìn)氣 |
| 操作系統(tǒng) | 中文系統(tǒng) 觸摸屏 |
| 真空泵系統(tǒng) | 雙極旋片泵組 |
| 電極結(jié)構(gòu) | 水平平板電極 |
| 工作真空度 | 20-60pa |
| 抽真空能力 | 空載60秒以內(nèi)抽到30pa以內(nèi) |
| 破空時(shí)間 | 20-40秒 |
| 氣體控制系統(tǒng) | 電磁閥控制 |
| 等離子發(fā)生器 | 0-600W可調(diào) |
工作原理
等離子清洗是通過(guò)等離子體的作用來(lái)去除晶圓表面的污染物和殘留物。等離子體是一種高能離子，具有很強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)性和機(jī)械作用力。當(dāng)?shù)入x子體與晶圓表面接觸時(shí)，會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)和物理作用，從而去除表面的污染物和殘留物。
應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：在光刻工藝之前，等離子處理可以去除有機(jī)污染物和氧化層，提高光刻的分辨率和精度。
先進(jìn)封裝：在凸塊工藝、再布線層工藝、硅通孔工藝、鍵合及解鍵合工藝中，等離子處理用于表面活化，提高焊接牢固性，減少封裝分層等問(wèn)題。
存儲(chǔ)器件：在制作閃存和DRAM等存儲(chǔ)器件時(shí)，等離子處理可以改善硅片表面的電學(xué)性質(zhì)，提升器件的性能和穩(wěn)定性。
傳感器和光電器件：等離子處理可以調(diào)節(jié)硅片的表面能和化學(xué)性質(zhì)，提高傳感器的靈敏度和光電器件的轉(zhuǎn)換效率。
榮譽(yù)資質(zhì)
相關(guān)配件
熱門(mén)產(chǎn)品
推薦資訊
- 2020-06-08 口罩熔噴布等離子駐極效果耐久性和穩(wěn)定性如何提升？
- 2022-12-23 大氣壓與等離子清洗機(jī)有何關(guān)系？
- 2023-06-14 醫(yī)用導(dǎo)管等離子表面處理的親水改性如何？
- 2022-08-30 DRAM芯片價(jià)格大跳水，三星砍單CIS，芯片需求不斷降低，等離子清洗機(jī)行業(yè)如何應(yīng)對(duì)？
- 2022-06-06 國(guó)產(chǎn)之光！普樂(lè)斯等離子清洗機(jī)出口北美了！
- 2023-02-15 恰逢情人節(jié)，昆山普樂(lè)斯23年第一次生日會(huì)
- 2019-11-12 PTFE是什么材料？為何需要低溫等離子表面處理？
- 2023-10-17 聚四氟乙烯內(nèi)窺鏡管等離子清洗機(jī)的選擇與使用指南
聯(lián)系普樂(lè)斯
咨詢熱線400-816-9009- 公司電話0512-5771 1102
- 公司傳真0512-5771 1103
- 企業(yè)郵箱info@plasmause.com
- 公司地址昆山市巴城鎮(zhèn)東盛路298號(hào)
蘇公網(wǎng)安備 32058302002178號(hào)
